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国产光刻胶目前是什么水平？国际的形势又是怎么样的呢？

总所周知，在半导体行业里，芯片的生产加工需要光刻机，那光刻胶可能有些人是比较少听到，没错，光刻胶也是半导体芯片生产过程中必不可少的材料之一，而且生产高端的芯片，对光刻胶的要求就更严格，那么我们国产光刻胶目前是什么水平？接下来就来给大家讲讲目前业界光刻胶的形势。

首先，理解一下光刻胶是什么，它是一种材料，又叫抗蚀剂，也叫光阻剂。光刻胶是指一大类具有光敏化学作用（或对电子能量敏感）的高分子聚合物材料。

在芯片的生产制造过程中，大概有40%-50%的时间都是在光刻的，这个过程不仅仅需要光刻机的运作，光刻胶也起到关键作用，光刻的精度就取决于光刻胶和光刻机的相互作用。但是这么关键的材料，却是被国外垄断的，光刻胶行业被日本、欧美的专业公司垄断，其中，全球市场被日本企业占据八成。

虽然被垄断，但是我们还是在逆境中前行。前些日子，在南大光电的互动平台上得知，南大光电研发制造的应用于7nm工艺的ArF光刻胶技术已通过客户测试，进入批量生产和销售阶段。这一信息，意味着我国的南大光电，7nm ArF光刻胶技术可以不受美国日本的约束了。

目前，最低端的光刻胶国内已经占了全球70%的市场了，中端主要用在面板生产领域，这个国内才起步，国产化率不足5%，所以在高端领域，我们可能还有很多要探索。