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国产光刻机突破22纳米，国产芯片不是梦！

我们日常接触的电子设备，常常都离不开芯片，这些年来一再强调国产芯片，并不仅仅是因为美国对华为在芯片上的各种制裁，更是体现出中国半导体行业与世界的差距，而芯片制造过程需要用到光刻机这个关键设备。

半导体芯片目前是每个国家想要大力投入发展的行业之一，高端芯片的生产制造离不开先进的光刻机了。之前我国公布北斗三号芯片的精度达到了22纳米，这也说明了在光刻机领域我国也突破了22纳米。在这个好消息出来不久之后，华为也宣布将成立半导体投资基建，这个项目也获得了国家的支持，在各方面都传来好消息的同时，可以说这些发展都在加速引导国产芯片的崛起。

说到光刻机不得不提的是，其中10nm以内的光刻机技术目前只有荷兰的ASML公司可以生产，ASML是目前全世界唯一可以商用生产EUV光刻机的企业，企业总部位于荷兰，是EUV光刻机的系统集成商，可以说是完全垄断了高端光刻机这部分的市场。不得不说我们与国际尖端水平是有一定差距的。说回国产光刻机，上海微电子是国内顶尖的光刻机制造商，不过目前只能应用于低端市场。

塞翁失马，焉知非福，中国企业受到美国的全面制裁，那自然就会导致许多订单绕道回国，这给了国产芯片和国产光刻机带来了巨大的机遇。早期因为技术等种种原因在市场上不占优势，现在有了订单有销售，就可以有更多的资金来投入研发，使得技术进步，现在还有政府的支持，相信在不久的将来，国产光刻机会有更大的突破，芯片国产化也不是梦。